平面刻划光栅是在高平整光学玻璃、熔融石英或金属基底上，经金刚石刀具精密机械刻划而成的反射式平面光栅，以高闪耀效率、刻线精度稳定、光谱分辨率优异为核心优势，是高精度光谱分析与激光调控的经典核心元件。
核心参数
| 参数项 | 指标范围（参考） |
| 刻线密度 | 50–3600 line/mm等多规格 |
| 闪耀效率 | 70% – 80%（闪耀波长处） |
| 波长范围 | 190 nm–20 μm（UV–VIS–NIR–MIR） |
| 基底材质 | 光学玻璃、熔融石英 |
| 标准尺寸 | 12.7×12.7 mm、25×25 mm、50×50 mm（支持定制） |
| 面形精度 | λ/4 @ 633 nm |
| 镀膜可选 | 铝（Al）、银（Ag）、金（Au）等 |
核心优势
闪耀效率高，光谱能量利用率优，适合高灵敏度光谱检测。
机械刻划工艺成熟，刻线深度与角度精准可控，性能长期稳定。
平面结构易于安装、校准与系统集成，适配各类光谱仪、单色仪与多色仪。
典型应用
实验室高精度光谱分析、激光脉冲压缩、环境监测、材料分析、天文观测设备。
